Hersteller von Hochreinheitsfilterelementen für präzise Durchflussregelung in Fabriken und Reinräumen
Hersteller von Hochreinheitsfilterelementen mit präziser Durchflusskontrolle
für Fabrikations- und Reinraumanwendungen
Beschreibung
HENGKO Oberflächenmontagefilter wurden speziell für die hohen Anforderungen integrierter Gassysteme in Halbleiter-OEM-Anlagen entwickelt. Mit branchenführender Filtration bei 0,003 µm gewährleisten diese Filter außergewöhnliche Leistung und Zuverlässigkeit mit einem Partikelabscheidegrad von ≥99,9999999 % (9-LRV) bei 120 slpm.
Diese Filter, gefertigt aus robustem, pulvergesintertem Edelstahl 316L für Filterelement und Gehäuse, entsprechen den Spezifikationen der SEMI F86-0304 und verfügen über Zwei-Port-Komponenten, die speziell für 1,125"-Gasverteilungssysteme mit C-Dichtung ausgelegt sind. Sie unterstützen einen maximalen Eingangsdruck von 3,4 MPa bei 100 °C und eine maximale Betriebsdruckdifferenz von 0,69 MPa bei 100 °C.
Diese Spezialfilter, die sowohl mit C- als auch mit W-Dichtungsspezifikationen kompatibel sind, erreichen eine hohe Reinheit im nachgelagerten Bereich bei gleichzeitiger Partikelfreisetzung.
Mit einer Oberflächengüte von Ra< 1,6 µm an der Außenseite und RaMit einer Innendicke von < 0,13 µm sind sie für hohe Temperaturen bis zu 460 °C ausgelegt. Dank ihrer Konstruktion für einfache Integration und modulare Design-Upgrades vereinfachen diese Filter Installation und Wartung und tragen so zur Optimierung der Systemleistung in der Halbleiterindustrie bei, insbesondere bei der Gasversorgung und -steuerung.
Produktmerkmale
▶ Komplett aus Edelstahl 316L gefertigt
▶ Miniaturisiertes Design, kompakte Bauweise, platzsparend
▶ Ausgezeichnete Gasaustausch- und Desorptionseigenschaften
▶ Hochtemperatur-, hochdruck- und korrosionsbeständig
▶ Elektropoliertes Gehäuse aus Edelstahl 316L
▶ Einfache und effiziente Installation und Wartung
▶ Mechanische Abdichtung, strukturell nicht mit dem Medium verschweißt
Datenblatt
| Technische Parameter | Werte |
|---|---|
| Filterelementmaterial | Sinterpulver aus Edelstahl 316L |
| Gehäusematerial | Edelstahl 316L |
| Maximaler Einlassdruck | 3,4 MPa bei 100 °C |
| Maximale Betriebsdifferenzial | 0,69 MPa bei 100 °C |
| Helium-Verifizierungsleckrate | 1x10⁻¹¹ cm³/min |
| Helium-Testleckrate | 1x10⁻⁹ cm³/min |
| Oberflächenbehandlung | Äußere Oberfläche Ra< 1,6 μm |
| Innenfläche Ra< 0,13 μm | |
| Maximale Betriebstemperatur | 460 °C |
| Partikelabfangeffizienz | ≥99,9999999% (9-LRV) @ 120 slpm (Referenz-MPPS, alle Partikel) |
| Reinigung stromabwärts | Partikelfreisetzung:< 0,03 Partikel/Liter (< 1 Partikel/ft³) |
| Flüchtige Stoffe:< 10 ppb Feuchtigkeit | |
| Partikel-Interzeptionsgröße | ≥0,003 μm |
| Durchflussbereich | 0 ~ 120 Schlupf/min |
Größe
Hier finden Sie die Artikelnummer, die Sie bestellen können, sowie die Größenangaben:
| Produktmodell | Durchflussrate | Höhe H (mm) | Filtrationspräzision | Reinigungsstufe |
|---|---|---|---|---|
| Z01B-00637 | 10 Schlupf/min | 51,6 | 0,003 μm | C |
| Z01B-00638 | 40 Schlupf/min | 82,9 | 0,003 μm | C |
| Z01B-00687 | 80 Schlupf/min | 126.2 | 0,003 μm | C |
| Z01B-00688 | 120 Schlupf/min | 167,9 | 0,003 μm | C |
Typische Anwendungen
Zur Verwendung mit W-Seal und C-Seal, 1,125" und 1,5" modularen Oberflächenmontage-Gasversorgungssystemen.
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