Hochreine Filter für kritische Halbleiterprozesse
Beschreibung
Hochleistungs-Gasfilter – Speziell entwickelt für die Filtration von Prozessgasen höchster Reinheit in der Halbleiterfertigung. Präzisionsgefertigt aus Edelstahl 316L, verfügt er über ein Mehrsäulen- oder gestapeltes Scheibenfiltersystem, das geringen Widerstand bei hohen Durchflussraten gewährleistet. Die Filtrationsgenauigkeit erreicht 0,003 µm und erfüllt somit höchste Reinheitsanforderungen. Dank seiner Ganzmetallkonstruktion ist er die ideale Filtrationslösung für dynamische Umgebungen mit hohen Temperaturen.
Produktmerkmale
▶Komplette Konstruktion aus Edelstahl 316L— Gewährleistet Langlebigkeit und Korrosionsbeständigkeit.
▶Hoher Durchfluss, geringer Widerstand— Optimiert für hohen Durchfluss bei minimalem Druckverlust.
▶Ultrahohe Partikelrückhalteeffizienz— Hervorragend geeignet zur Aufrechterhaltung ultrareiner Bedingungen.
▶Beständig gegen hohe Temperaturen, Druck und Korrosion— Geeignet für raue Umgebungen.
▶Kompatibel mit verschiedenen Prozessgasen— Vielseitig einsetzbar für diverse industrielle Anwendungen.
▶Ideal für Reinraumfertigung, -prüfung und -verpackung— Ideal für den Einsatz in kontrollierten Umgebungen.
▶100% Integritätsprüfung— Jeder Filter wird einer umfassenden Integritätsprüfung zur Qualitätssicherung unterzogen.
▶100% Helium-Leckprüfung— Durch Helium-Lecktests verifiziert, um die Zuverlässigkeit in kritischen Anwendungen zu gewährleisten.
Datenblatt
Technische Parameter
| Parameter | Spezifikation |
|---|---|
| Filterelementmaterial | 316L Edelstahl pulvergesintert |
| Gehäusematerial | Edelstahl 316L |
| Maximaler Einlassdruck | 207 bar |
| Maximaler Betriebsdifferenzdruck | 5,2 bar |
| Helium-Validierungsleckrate | 2 x 10⁻¹⁰ cm³/min |
| Helium-Testleckrate | 1 x 10⁻¹⁰ cm³/min |
| Oberflächenbehandlung | |
| Außenfläche | Ra < 1,6 μm |
| Innenfläche | Ra < 0,2 μm |
| Maximale Betriebstemperatur | |
| Inertgas | 400-500℃ |
| Korrosives und reaktives Gas | 50℃ |
| Partikelrückhalteeffizienz | ≥99,9999999 % (9LRV) bei 30 slpm |
| Reinigung stromabwärts | ≤0,03 Partikel/Liter @ > 0,01 μm, 30 slpm |
| Partikelretentionsgröße | ≥0,003 μm |
Größe
Hier finden Sie die Artikelnummer, die Sie bestellen können, sowie die Größenangaben:
| Produktmodell | Filterelementmaterial | Filtrationsgenauigkeit (μm) | Verbindungstyp |
|---|---|---|---|
| Z01B-00647 | Edelstahl 316L | 10~0,003 | 1/4 Zoll |
| Z01B-00648 | Edelstahl 316L | 10~0,003 | 1/2 Zoll |
| Z01B-00649 | Edelstahl 316L | 10~0,003 | 1/8 Zoll |
| Z01B-00650 | Edelstahl 316L | 10~0,003 | 1 Zoll |
| Anpassbar | Edelstahl 316L | 10~0,003 | Nach Bedarf |
Typische Anwendungen
einige typische AnwendungsbereicheHochreine Bulk- und UniversalfilterUndGasstromfilter am Gasanschluss:
1. Halbleiterfertigung
*Gewährleistet die Versorgung mit ultrareinem Gas für Waferherstellungs-, Ätz- und chemische Gasphasenabscheidungsprozesse (CVD).
*Gewährleistet eine hohe Reinheit in Massengasverteilungssystemen für Stickstoff, Argon und andere Trägergase.
2. Pharmazeutische Produktion
*Liefert steriles und partikelfreies Gas für kritische Produktionsumgebungen.
*Unterstützt die Hochreinheitsfiltration für Reinräume und kontrollierte Umgebungen, um die Produktintegrität zu erhalten.
3. Laborgassysteme
*Wird in Laborumgebungen zur Reinigung von Gasströmen in Analysegeräten wie der Gaschromatographie und der Massenspektrometrie eingesetzt.
*Gewährleistet hochreine Gase für Forschungs- und Testanwendungen und schützt so empfindliche Instrumente.
4. Lebensmittel- und Getränkeverarbeitung
*Filtert CO₂ und andere Gase, die bei der Karbonisierung, Verpackung und Lagerung verwendet werden, und trägt so zur Aufrechterhaltung der Lebensmittelsicherheit und -qualität bei.
*Gewährleistet eine kontaminationsfreie Gasversorgung in Verarbeitungsanlagen, insbesondere für Gasgroßhändler.
5. Öl- und Gasindustrie
*Reinigt Erdgasströme in Gasfilteranlagen und entfernt Verunreinigungen vor der Lagerung oder dem Transport.
*Schützt nachgeschaltete Anlagen durch die Entfernung von Partikeln, Feuchtigkeit und Verunreinigungen in Hochdruck-Gasflusssystemen.
6. Chemische Herstellung
*Filtert Hilfsgase wie Stickstoff und Argon, die bei chemischen Synthesen und Reaktionen verwendet werden.
*Sorgt für die Aufrechterhaltung der Gasreinheit, um Verunreinigungen und Reaktionsunregelmäßigkeiten zu vermeiden.
7. Luft- und Raumfahrt sowie Verteidigung
*Liefert hochreine Gase in Fertigungs- und Testumgebungen für Luft- und Raumfahrtmaterialien und -komponenten.
*Gewährleistet gleichbleibende Gasreinheit in kontrollierten Umgebungen für die Montage von Flugzeugen und Verteidigungsausrüstung.
8. Energieerzeugung (Kraftwerke)
*Filtert Hochdruckgase für Kühl- und Prozessanwendungen, insbesondere in Hochtemperaturumgebungen.
*Steigert die Effizienz und reduziert den Geräteverschleiß durch die Verhinderung von Verunreinigungen in Gaskühl- und Durchflusssystemen.
Diese fFilter sind in allen Anwendungen, die einen sauberen, gleichmäßigen Gasstrom erfordern, unerlässlich und verbessern den Schutz der Anlagen.
Prozesseffizienz und Endproduktqualität branchenübergreifend.
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